Phaj faib roj alumina rau CVD / PVD Da Dej taub hau
Lub phaj faib roj ntawm St.Cera (lub taub hau da dej) yog ua los ntawm cov khoom siv alumina ceramic uas muaj 99.8% purity siab. Nws muaj ntau qhov me me (qhov loj 0.3–1.5 hli) uas ua kom cov roj ntws zoo ib yam thoob plaws ntawm qhov chaw wafer thaum lub sijhawm CVD, PVD, lossis ALD. Lub zog dielectric siab ntawm lub phaj (>15 × 10⁶ V/m) thiab kev tiv taus plasma ua rau nws tseem ceeb rau kev tso cov zaj duab xis nyias semiconductor.
Cov Lus Qhia:
| Vaj tse | Tus nqi |
| Khoom siv | 99.8% Al₂O₃ lossis SiC |
| Txoj kab uas hla | 100 – 1500 hli (puag ncig) los yog duab plaub fab |
| Qhov tuab | 5 – 20 hli |
| Qhov Txoj Kab uas hla | 0.3 – 1.5 hli |
| Qhov Qauv | Kev cai (peb fab, plaub fab xwmfab, radial) |
| Kev tiaj tiaj | ≤10 μm hla thaj chaw tag nrho |
| Qhov Roughness ntawm qhov chaw | Ra ≤0.6 μm (sab roj) |
| Qhov Sib Piv ntawm Thaj Chaw Qhib | 5–15% |
Cov ntawv thov:
Cov phaj da dej PECVD
Cov roj txhaj ALD
Cov phaj faib roj ntawm lub chamber Etch
Cov khoom sib xyaw ntawm MOCVD reactors
Kev Tsim Khoom:
Alumina substrate lapped tiaj tus → CNC drilling nrog cov cuab yeej diamond-coated (qhov chaw kam rau siab ± 0.02 hli) → deburring → ultrasonic ntxuav → Chav Kawm 100 ntim.
Kev Tswj Xyuas Zoo:
Txhua lub phaj raug tshuaj xyuas 100% rau qhov loj ntawm lub qhov (lub kaw lus pom), qhov tiaj tiaj (laser interferometer), thiab qhov sib npaug ntawm cov roj ntws (kev kos duab siab). Tsis muaj qhov tawg me me hauv qab lub tshuab microscope 20x.
Cov Zoo Dua Cov Phaj Hlau:
Tsis muaj kev sib kis ntawm cov hlau hauv cov yeeb yaj kiab nyias
Tsawg dua cov khoom me me (tsis muaj cov nplais xeb)
Tiv taus cov plasmas ntxuav hnyav (CF₄, NF₃)
Cov Nta Tshwj Xeeb:
Cov kav roj sab nraub qaum, cov qhov uas tho qhov, cov ntsaws ruaj ntug, thiab cov qib khoom sib txawv (SiC rau kev ua kom muaj cua sov ntau dua, Y₂O₃ txheej rau kev tiv thaiv plasma).
Peb muab CAD kev txheeb xyuas thiab kev sim ua ntej kev tsim khoom.
